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低频放电
低频放电的频率一般在50~500KHz,其原理是在电极间利用低频电场激发产生
等离子体
,这种方式在材料表面改性中大量应用。低频放电由于交流电场作用,其放电电压远低于直流放电,并且随着频率的提高放电电压和维持电压降低,低频放电的放电模式与频率相关,频率较低时,和直流辉光放电类似,此时电子和离子移动距离短,电离度低;当频率提高到一定数值,电子和离子在电极间振荡运动,移动行程增大,与气体分子发生碰撞的机率增大,电离度提高。目前市面所售的
等离子清洗设备
有低频放电方式,频率为40KHz,低频放电符合辉光放电的特性,与射频放电相比,电流很小,不存在阻抗匹配的问题,结构简单,多为电容耦合结构,因此电极的二次污染问题仍然存在。
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